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新的光学系统令 ECLIPSE焕发新风采
        ECLIPSE 显微镜机身采用模块化制造，可满足多领域的工业应用，其中包括半导体器件、封装、FPD、电子器件、材料和精密模具制造等。
    ECLIPSE LV 系列经过不断的发展完善并配备了新的光学系统和功能，可根据观察方法和目的 选择支架装置和照明装置以满足多种观察需求。
    用户可以选择使用电动和手动操控模式以及反射照明专用模式和反射／透射组合照明模式以便满足任何应用需求。

CFI60-2 经过改进的光学性能

           以独特的高数值孔径和长工作距离设计理念而著称的尼康 CFI60 光学系统；

    经过进一步改进，具有一流的长工作距离、色差校正性能和更轻的重量。

轻松的操作 与数码相机集成

   现在可以使用数码控制装置来检测包括物镜信息在内的显微镜信息，以及对显微镜进行电动操作，以更高效地进行观察和图像拍摄。

特点：

    可支持多种观察方法：明场、暗场、偏光、微分干涉、落射荧光和双光束干涉测量等。

半导体（IC晶片）

    从物镜到照明系统，LV-N系列采取了全方位的防眩光措施，确保生成明亮、高对比度的图像。

半导体（IC晶片）

    采用尼康独特设计理念开发的物镜暗场照明系统可实现明亮的暗场观察，从而可对标本差异和缺陷进行高灵敏度的检测。

基板

    可使用适合标本观察的标准型和高对比度型DIC插片。LV-N系列十分适合观察设备和精密模具中的细微差异等应用。

基板（焊点）

    LV-N系列在观察有机EL或安装的基板等具有荧光性质的标本时表现出了卓越的性能。

矿物质

    LV-N系列十分适合观察具有双折射性质的标本，例如：容易失真的液晶或塑料/玻璃等。

云母

    LV-N系列可使用Michelson(TI)和Mirau(DI)反射型双光束干涉测量法。当配合使用测微计目镜时，可在不接触标本的情况下检测和测量标本的细微差异。